国产22纳米光刻机治不了咱们的“芯”病！-亚博app买球安全

11月29日，中国科学院开发的“超强判别光刻装备”通过了竣工检查。据消息记载，谣言—— 《国产光刻机最出色突破，国产芯片白菜简化在即》 《突破荷兰技术封锁，急弯转弯》 《得意了我的国，新式光刻机将超越“芯片耕”》 ……笔者正好向中国科学院光电所答辩不能进行这次竣工检查。写了报道，算术很清楚，不能说一些没完没了的废话。中国科学院开发的这个光刻机不能(正如一些网络媒体所说)用于光刻CPU。

其意义是，用廉价的光源构筑高分辨率，作为生产场景使用，很经济。再解释一遍：光刻机不仅仅是为了生产芯片。如果想在一张平面(硅片或任何材料)上打磨麻烦的图案，可以用光刻——拍摄，把图像转印到感光薄膜上，蚀刻一部分扔掉。

半个多世纪前，美国人根据这个原理使用“印刷”电路制作了大规模的集成电路——芯片。为了节约能源和省硅材料，芯片越小，光刻机就越极端。如果线一定程度粗，投影就会模糊。为了投影到明了，线的行程不能超过光的波长的一半。

用于中心步进器的波长13.5纳米的极紫外光源，喜欢刻10纳米以下的线。但是，平稳大功率的极紫外光源很难建设，一个是3000万人民币。

由于工作环境严峻，拒绝对应的光学和机械部件是极端的设备，荷兰ASML公司独占了极紫外光雕刻机，构建了“一台买一亿美元”的神话。十几年前，国际上开始对sp(surfaceplasma )光刻法感兴趣。中国科学院光电所从2003年开始研究，是一支缓慢而有成果的团队。SP是光电站的科学家杨勇向笔者解释的：熟悉金属片和非金属片，界面上有一些乱七八糟的电子。

光投影到金属上时，这些电子有规律地波动，产生波长几十纳米的电磁波，可以用于光刻。但是，因为这个电磁波很弱，所以只有光刻胶靠近了，才会被刻。加工精度不能和ASML的光刻机相比。

刻有几十纳米级芯片的不能使用SP光刻机，至少现在的技术做不到。竣工验收会上也有记者问我，这个光刻设备能刻芯片，超过海外垄断吗？ 光电站的专家听说，作为芯片使用必须攻克一系列的技术课题，还很远。总之，中科院的22纳米分辨率光刻机与ASML独占的光刻机不同，前者说是突然弯曲的，中国好像出现了短跑运动员打破螺栓。各媒体第一时间附加的信息对于我看到的东西是理所当然的。

然后网络媒体在树枝上加了叶子，做了很奇怪的事。有些播音员为了更有眼力地赚钱，最喜欢生产“自嗨文”和“吓尿体”。听到国产科技成果首先被吹到大里，驴被马喷，马被骆驼喷，容易买骆驼的价格。

这个“科技报道”是虚荣心十足的假消息。专家皱着眉头，抛弃了大吉。不要害怕很多科学家会成为新闻。

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